海德与您分享平面研磨抛光时，抛光垫的作用： ①把抛光液有效均匀地输送到抛光垫的不同区域; ②将抛光后便化学反应充分进行;的反应物、碎屑等顺利排出，达到去除效果; ③维持抛光垫表面的抛光液薄膜, 以便化学反应充分进行; ④保持抛光过程的平稳、表面不变形, 以便获得较好的晶片表面形貌。
