高纯度硅(Si)是现代电子信息工业的关键材料,其制取原理如下图所示: (1)原理中两次应用置换反应后

2025-05-15 07:52:16
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回答1:

(1)A.金属单质镁和稀盐酸反应能生成氯化镁和非金属单质氢气.故填:Mg+2HCl MgCl 2 +H 2
B.金属单质铁和硫酸铜反应能生成硫酸亚铁和金属单质铜.故填:Fe+CuSO 4 =FeSO 4 +Cu.
C.非金属单质碳能和氧化铁反应生成二氧化碳和金属单质铁.故填:2Fe 2 O 3 +3C
 高温 
.
 
4Fe+3CO 2
D.非金属单质碳能和二氧化硅反应生成一氧化碳和非金属单质硅.故填:非金属;非金属.
(2)硅和氯气反应生成四氯化硅,反应的化学方程式为:SiCl 4 +2H 2
 高温 
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Si+4HCl.反应特点,是“多变一”,是化合反应
故答案为:化合反应;SiCl 4 +2H 2
 高温 
.
 
Si+4HCl